真空膜的定義、原理、特點

　　1.的定義∶

　　在真空條件(jian)下，利(li)用氣(qi)體(ti)放(fang)電使氣(qi)體(ti)或蒸(zheng)(zheng)發(fa)物(wu)質離化(hua)，在氣(qi)體(ti)離子或被(bei)蒸(zheng)(zheng)發(fa)物(wu)質離子轟擊作用的同時，把(ba)蒸(zheng)(zheng)發(fa)物(wu)或其(qi)反(fan)應物(wu)蒸(zheng)(zheng)鍍在基片上。

　　離子鍍把輝光放電、等離子體技(ji)術與(yu)真(zhen)空蒸發鍍膜(mo)技(ji)術結合在一起(qi)

　　2.真空離子鍍膜的特點∶

　　(1)鍍層附著性(xing)能好,膜層不易脫落

　　(2)繞(rao)鍍性好，改善了表(biao)面的覆蓋度

　　(3)鍍層(ceng)質量好(hao)

　　(4)沉(chen)積速率高,成膜(mo)速度快

　　(5)鍍膜(mo)所適用的基體材(cai)料與膜(mo)材(cai)范(fan)圍廣

　　3.真空離子鍍膜的原理︰

　　真(zhen)空離(li)子(zi)(zi)(zi)鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)是(shi)真(zhen)空蒸發(fa)(fa)(fa)和真(zhen)空濺射鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)結合的(de)(de)一種鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)技(ji)術(shu)。離(li)子(zi)(zi)(zi)鍍(du)(du)(du)的(de)(de)過程(cheng)是(shi)在(zai)真(zhen)空條件下，利(li)用(yong)氣(qi)體(ti)放(fang)電使工(gong)作(zuo)氣(qi)體(ti)或(huo)被蒸發(fa)(fa)(fa)物質(zhi)(膜(mo)(mo)材)部(bu)分離(li)化(hua)，在(zai)工(gong)作(zuo)氣(qi)體(ti)離(li)子(zi)(zi)(zi)或(huo)者被蒸發(fa)(fa)(fa)物質(zhi)的(de)(de)離(li)子(zi)(zi)(zi)轟擊作(zuo)用(yong)下，把蒸發(fa)(fa)(fa)物質(zhi)或(huo)其反應物沉(chen)積(ji)在(zai)被鍍(du)(du)(du)基(ji)片表面(mian)的(de)(de)過程(cheng)。