等離(li)子清(qing)洗(xi)機是一種(zhong)常見的表面清(qing)洗(xi)設備，通(tong)過(guo)利(li)用等離(li)子體的化學反應(ying)和物理作用來清(qing)除表面污染物。其(qi)原(yuan)理如下(xia)：

　　產生等離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)體(ti)(ti)(ti)：等離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)清洗機通過(guo)加入高(gao)頻電場激(ji)發氣體(ti)(ti)(ti)，產生包(bao)含電子(zi)(zi)(zi)、激(ji)發態離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)以(yi)及(ji)原子(zi)(zi)(zi)團自(zi)由基等多種活性粒(li)子(zi)(zi)(zi)的(de)等離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)體(ti)(ti)(ti)射流。等離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)體(ti)(ti)(ti)是由帶正電荷(he)和(he)帶負(fu)電荷(he)的(de)電離(li)(li)(li)粒(li)子(zi)(zi)(zi)、自(zi)由基和(he)電子(zi)(zi)(zi)組成的(de)高(gao)度活躍的(de)氣體(ti)(ti)(ti)。

　　等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)與污(wu)染物(wu)接觸：等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)通(tong)過反(fan)應和碰撞，與表面附著的污(wu)染物(wu)發生物(wu)理和化學作用。例如，等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)中的自(zi)由(you)基(ji)可(ke)以氧化污(wu)染物(wu)，將其分解成無害(hai)的氣體(ti)。

　　清(qing)(qing)(qing)除(chu)(chu)污(wu)染物：等離子(zi)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)機(ji)通過控制等離子(zi)體的(de)能量和(he)(he)濃(nong)度，將污(wu)染物徹底清(qing)(qing)(qing)除(chu)(chu)。等離子(zi)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)機(ji)通常會設置不同的(de)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)程序和(he)(he)參數(shu)，以適應不同材料和(he)(he)污(wu)染物的(de)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)需求。

　　等離子清(qing)洗(xi)機的(de)優點包括清(qing)洗(xi)效果好、清(qing)洗(xi)速(su)度快(kuai)、對(dui)材(cai)料(liao)的(de)損(sun)傷小(xiao)等。它廣泛(fan)應(ying)用于(yu)半導體、光電(dian)、航空航天等行(xing)業的(de)制造(zao)和清(qing)洗(xi)工藝中(zhong)。