常壓等離子清洗機是市場上應用廣泛的等離子清洗機。與真空等離子清洗機相比，常壓等離子清洗機操作更簡單、價格更便宜、運營成本也更低并且清洗效果還更高。這些處理效果已經可以滿足大(da)多數(shu)行業的需求，并(bing)且解決了該類型企業市(shi)場(chang)競(jing)爭(zheng)難的問題。它主要用于處理具有規則和平面(mian)的對象(xiang)。

　　早期的(de)(de)等(deng)離子清洗機(ji)(ji)并不常見(jian)，那時的(de)(de)各種大(da)氣壓清洗機(ji)(ji)的(de)(de)價格(ge)相當昂貴。近(jin)年(nian)來，隨著競(jing)爭的(de)(de)加劇(ju)，市場變(bian)得(de)透(tou)明，價格(ge)大(da)幅下降。包括真(zhen)空等(deng)離子清洗機(ji)(ji)的(de)(de)價格(ge)下降了很(hen)多(duo)。

　　常壓(ya)等離子(zi)清洗機(ji)(ji)是(shi)使(shi)用空氣(qi)(qi)(qi)或者其他一些(xie)廉價氣(qi)(qi)(qi)體進行(xing)清潔。使(shi)用成(cheng)本(ben)很(hen)低。此外只需(xu)要一點電(dian)就可以運(yun)行(xing)。就標(biao)準而言，大氣(qi)(qi)(qi)壓(ya)等離子(zi)體實際上是(shi)一臺發電(dian)機(ji)(ji)和一個噴嘴(zui)，在實際應用中會給你很(hen)多(duo)意想(xiang)不到的(de)效(xiao)果。

　　等離(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)的(de)產(chan)(chan)生(sheng)機(ji)理包括(kuo)電(dian)(dian)離(li)反(fan)應、帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)的(de)輸運(yun)和電(dian)(dian)磁運(yun)動學。等離(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)的(de)產(chan)(chan)生(sheng)和氣化伴隨著電(dian)(dian)子(zi)(zi)、粒子(zi)(zi)和中性(xing)粒子(zi)(zi)的(de)碰撞反(fan)應。等離(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)中粒子(zi)(zi)的(de)碰撞將產(chan)(chan)生(sheng)活性(xing)成分。由于等離(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)處(chu)理的(de)目(mu)的(de)是(shi)(shi)修飾表面(mian)或在表面(mian)形(xing)(xing)成一(yi)層(ceng)合成材料，因此在整個處(chu)理過程中，我(wo)們最(zui)關(guan)心的(de)是(shi)(shi)等離(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)與材料之(zhi)間的(de)相互作用以(yi)及最(zui)終(zhong)反(fan)應產(chan)(chan)物的(de)形(xing)(xing)成。

　　每個等(deng)離(li)子(zi)體處理(li)(li)(li)過程(cheng)(cheng)僅限(xian)于一個多維參數(shu)室。反(fan)(fan)應(ying)(ying)室的(de)大(da)小(xiao)決(jue)定了整個過程(cheng)(cheng)的(de)經濟性、反(fan)(fan)應(ying)(ying)質量、反(fan)(fan)應(ying)(ying)性能等(deng)參數(shu)。這些(xie)參數(shu)可以使處理(li)(li)(li)工藝具(ju)有競爭(zheng)力(li)，并具(ju)有工業應(ying)(ying)用(yong)價(jia)值。腔室的(de)操(cao)作(zuo)受到(dao)許多限(xian)制，例如處理(li)(li)(li)過程(cheng)(cheng)受到(dao)等(deng)離(li)子(zi)體類(lei)型和反(fan)(fan)應(ying)(ying)速率的(de)限(xian)制，處理(li)(li)(li)效(xiao)率受到(dao)電能轉(zhuan)換為等(deng)離(li)子(zi)體密度的(de)方式的(de)限(xian)制，反(fan)(fan)應(ying)(ying)輸出受到(dao)處理(li)(li)(li)過程(cheng)(cheng)中某些(xie)原材料消耗的(de)限(xian)制

在等離子輔助制造行業。等離子體通常用于以下目的：

　　(1) 等離子體(ti)可用作熱源。

　　(2) 等離子體可用作化學催化劑

　　(3) 等離子體可以作為高能離子電流(liu)和電子電流(liu)的來源。

　　(4) 它(ta)可用作濺射粒(li)子源。

　　在許(xu)多(duo)工藝中，等(deng)離子(zi)體(ti)的(de)這些基(ji)本特性隨處(chu)(chu)(chu)可見，逐漸形成了以等(deng)離子(zi)體(ti)為處(chu)(chu)(chu)理(li)手段的(de)基(ji)礎(chu)制(zhi)造業(ye)。單個(ge)處(chu)(chu)(chu)理(li)過程或(huo)多(duo)個(ge)處(chu)(chu)(chu)理(li)過程的(de)組合(he)可使血漿具有不同的(de)用途。例如，在等(deng)離子(zi)體(ti)中，通過等(deng)離子(zi)體(ti)的(de)化(hua)學合(he)成產生新的(de)化(hua)學品，或(huo)者(zhe)通過粒子(zi)聚合(he)在表面沉積(ji)薄膜。

　　常(chang)壓等離(li)子清洗機(ji)應用(yong)范圍是非常(chang)廣泛的，無論是真空機(ji)還(huan)是常(chang)壓機(ji)，大多數都是定制設備。整(zheng)個過(guo)程就是客戶(hu)向我們提供他(ta)的需求(qiu)，然后(hou)我們根(gen)據需求(qiu)為客戶(hu)提供解(jie)決方案，如(ru)您(nin)有(you)興趣歡迎與我們聯系！