1. 等離子在AF噴涂鍍膜工藝中的角色

　　如果說AF噴涂鍍膜工藝是加工企業購買的核心工藝，那么采用的等離子技術便是對產品表面改性增加鍍膜品質的重要支撐。上料、等離子預處理、AF霧化噴涂鍍膜、烘烤固化、下料檢驗包裝是AF噴涂鍍膜工藝簡單的工藝整線，如果你有看過小編Rogen前面的文章《為什么要使用等離子清洗？等離子處理是怎么開始的？》，你(ni)就會知道等離子預(yu)處理是鍍膜品質的重要決定因素之一(yi)，在整個鍍膜工藝(yi)上也(ye)得以(yi)完美的體現。

2. 等離子在AF噴涂鍍膜工藝中的定義

　　等離子是AF噴涂鍍膜加工企業為了讓產品獲得更優質的鍍膜性能而采用的技術，讓其企業能夠以低成本獲得高質量的產品/服務使用價值。如今的等離子我們已經與AF噴涂機集成(cheng)一(yi)體(ti)化作業(ye)，鍍(du)膜(mo)效率更(geng)高，作業(ye)性(xing)更(geng)靈(ling)活。

　　我們(men)可以把(ba)等(deng)離(li)子理(li)解(jie)成(cheng)表(biao)面(mian)潤濕和改(gai)性(xing)是材(cai)(cai)料(liao)科學中(zhong)用于增(zeng)(zeng)強材(cai)(cai)料(liao)特(te)性(xing)而不影響整體特(te)性(xing)的基本(ben)工(gong)(gong)具，等(deng)離(li)子清洗(xi)用于通(tong)過引入極(ji)性(xing)官能團來改(gai)變材(cai)(cai)料(liao)表(biao)面(mian)化(hua)學性(xing)質(zhi)。等(deng)離(li)子處(chu)理(li)后增(zeng)(zeng)加(jia)的表(biao)面(mian)親(qin)水(shui)性(xing)(潤濕性(xing))提高了與防(fang)指紋涂層的附著(zhu)力(li)。鍍膜前對(dui)工(gong)(gong)件(jian)(jian)進行清潔處(chu)理(li)，降(jiang)低工(gong)(gong)件(jian)(jian)本(ben)身附帶的雜質(zhi)，降(jiang)低產品(pin)污率，提升產品(pin)品(pin)質(zhi)。

3. AF噴涂鍍膜與等離子的關系

　　等(deng)離子的預(yu)處理性(xing)能影響(xiang)AF噴(pen)涂鍍(du)膜(mo)的質量，鍍(du)膜(mo)最終的質量性(xing)能圍繞水滴角和(he)耐磨性(xing)能上下波動(dong)(判(pan)斷鍍(du)膜(mo)品質)，這(zhe)是AF噴(pen)涂鍍(du)膜(mo)工藝中老生常談的概(gai)念(nian)了。

　　我們可將等離子和AF噴涂鍍膜區分為一前一后布局，以此排列組合，將等離子預處理置于前段可以實現有效增幅，而不能放到AF噴涂鍍膜區后段，那樣也毫無效果。因其被稱為等離子預處理，其核心目的是為在沒有開始鍍膜之前，處理需要鍍膜工件，使其達到最佳鍍膜標準再讓其開始鍍膜，成膜的品質也能更好的達到鍍膜加工指標。想要了解更多請查看《AF防指紋噴涂機為什么要選擇等離子清洗技術(你知道嗎)?》

　　震儀噴(pen)涂鍍膜(mo)工藝等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)鍍膜(mo)工藝一(yi)般采用三種方案：旋(xuan)轉式(shi)等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)、線(xian)性等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)、雙重(zhong)式(shi)等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(旋(xuan)轉+線(xian)性等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi))，分(fen)別為不(bu)同需求(qiu)客戶提供不(bu)同的需求(qiu)解(jie)決方案。

4.等離子體的發生過程

　　在等離子(zi)(zi)體中，氣體原子(zi)(zi)被(bei)(bei)激(ji)發到更高(gao)的(de)能(neng)量狀態(tai)(tai)并被(bei)(bei)電離。當原子(zi)(zi)和分子(zi)(zi)“放松”到它們(men)正常的(de)較(jiao)低(di)能(neng)量狀態(tai)(tai)時(shi)，它們(men)會(hui)釋放出(chu)(chu)光(guang)(guang)子(zi)(zi)，從而產(chan)生(sheng)與等離子(zi)(zi)體相關(guan)的(de)特征“輝光(guang)(guang)”或(huo)光(guang)(guang)。不同(tong)的(de)氣體會(hui)產(chan)生(sheng)不同(tong)的(de)顏色。例如，氧等離子(zi)(zi)體發出(chu)(chu)淺藍(lan)色。

　　等(deng)離(li)子(zi)體的活化物(wu)質包(bao)括短波紫(zi)外線(真空(kong)紫(zi)外線，或簡稱 VUV)范圍內的原子(zi)、分子(zi)、離(li)子(zi)、電子(zi)、自由(you)基(ji)、亞穩態和光(guang)子(zi)。然后該(gai)混合物(wu)與放置在(zai)等(deng)離(li)子(zi)體中的任何(he)表面相互(hu)作用(yong)。

　　如果(guo)使用的(de)(de)氣(qi)(qi)體是(shi)氧(yang)氣(qi)(qi)，則等離子(zi)體是(shi)一種有(you)效、經濟、環保的(de)(de)關鍵(jian)清潔方法。VUV 能(neng)量在破壞表面(mian)污染物(wu)的(de)(de)大(da)多數有(you)機鍵(jian)(即 C-H、C-C、C=C、C-O 和 C-N)方面(mian)非常有(you)效。這有(you)助于分(fen)解高分(fen)子(zi)量污染物(wu)。通過等離子(zi)體中產生(sheng)的(de)(de)氧(yang)物(wu)質(O 2 +、O 2 -、O 3、O、O +、O -、電離臭氧(yang)、亞穩態激發氧(yang)和自(zi)由電子(zi))執行第(di)二次清潔動作。這些物(wu)質與(yu)有(you)機污染物(wu)反應形成 H 2 O、CO、CO 2, 和較低分(fen)子(zi)量的(de)(de)碳氫化合(he)(he)物(wu)。這些化合(he)(he)物(wu)具有(you)相(xiang)對高的(de)(de)蒸氣(qi)(qi)壓(ya)，并在處理(li)過程(cheng)中從腔室中排(pai)出。由此產生(sheng)的(de)(de)表面(mian)是(shi)超干凈的(de)(de)。

5、其他關于等離子的思考

哪種氣體是等離子最常用的氣體?

　　氮氣通常用于更(geng)高(gao)電流的等離子(zi)系統和切割(ge)(ge)厚度達(da) 3 英寸(cun)的材(cai)料。它(ta)可以在(zai)大(da)多(duo)數(shu)材(cai)料上(shang)產生出色的切割(ge)(ge)質量。當需要對厚度達(da) 1 -1/4 英寸(cun)的碳鋼進行最高(gao)質量的機械(xie)化切割(ge)(ge)時(shi)，會使(shi)用氧氣。切割(ge)(ge)面光滑，渣滓容(rong)易去除。

等離子是如何清理材料表面污染物的?

　　等(deng)離子在(zai)光束電(dian)離過程中，會產(chan)生大量的電(dian)離電(dian)子，進一(yi)步產(chan)生大量等(deng)離子體，可用于啟動(dong)去除各種類型的污(wu)染物分(fen)子，如 NOx、SOx 和 VOCs。

等離子蝕刻有什么作用?

　　等離(li)子(zi)蝕刻用(yong)于在微觀尺度(du)上(shang)“粗糙化”表(biao)面(mian)。組(zu)件的表(biao)面(mian)通(tong)常用(yong)反應性(xing)工藝(yi)氣體蝕刻，這會對(dui)表(biao)面(mian)產生化學(xue)和物理效應。

等離子體是如何產生的?

　　當一(yi)個(ge)(ge)或(huo)多個(ge)(ge)電子(zi)從原子(zi)中(zhong)脫離時，就會(hui)產(chan)生等離子(zi)體。一(yi)個(ge)(ge)電離的原子(zi)可能會(hui)丟失(shi)幾個(ge)(ge)電子(zi)(甚(shen)至只有一(yi)個(ge)(ge))，或(huo)者它可能會(hui)被(bei)完全剝(bo)奪(duo)電子(zi)，留下一(yi)個(ge)(ge)原子(zi)核(he)(一(yi)個(ge)(ge)或(huo)多個(ge)(ge)質子(zi)，通常(chang)是(shi)一(yi)些中(zhong)子(zi))。

等離子蝕刻和干蝕刻一樣嗎?

　　干(gan)法蝕刻也稱為等離子(zi)蝕刻，是(shi)通(tong)(tong)過(guo)用離子(zi)轟(hong)擊半(ban)導體材(cai)料的(de)掩(yan)模圖(tu)案來去除它的(de)過(guo)程。通(tong)(tong)常，離子(zi)是(shi)活(huo)性氣(qi)體的(de)等離子(zi)體，如氧(yang)氣(qi)、硼(peng)、碳氟化合物、氯(lv)和三氯(lv)化物。

什么是CF 4等離子?

　　CF 4是一種工藝(yi)氣體，經(jing)常用于通過(guo)等離(li)子聚合進行的涂層工藝(yi)。它用于產(chan)生氟(fu)(fu)化表面，特別(bie)是用于脫(tuo)膜(mo)，即產(chan)生全氟(fu)(fu)化表面。通過(guo)等離(li)子聚合，PTFE 表面可以(yi)由 CF4 聚合物制成(cheng)。

什么是晶圓等離子清洗?

　　晶(jing)圓(yuan)等離子清洗——等離子清洗傳統上用(yong)于(yu)去除在晶(jing)圓(yuan)級(ji)設備制造過程(cheng)中(zhong)產生(sheng)的污(wu)(wu)染物，或在上游(you)組裝過程(cheng)中(zhong)產生(sheng)的污(wu)(wu)染物。

6、總結

　　等(deng)離子在AF噴涂鍍膜工(gong)藝(yi)中的(de)(de)屬(shu)于核(he)心組件。等(deng)離子的(de)(de)應用不(bu)僅僅是(shi)在AF噴涂鍍膜工(gong)藝(yi)上的(de)(de)應用是(shi)屬(shu)于核(he)心，在很多行業都是(shi)屬(shu)于預(yu)處理的(de)(de)絕佳(jia)搭配。