氧等離子體是指在等離子體室中也使用氧氣的任何等離子體清潔工藝。氧(yang)(yang)氣(qi)也用于粘合(he)前進行的(de)清潔過(guo)程。氧(yang)(yang)氣(qi)也可以與(yu)其他氣(qi)體結合(he)以蝕刻表面(mian)。

　　說氧氣是等離子清洗中最常用的氣體并(bing)沒有錯。這主要是由(you)于其廣泛的可用性(xing)和(he)低成(cheng)本(ben)。氧(yang)等離子(zi)體可以通(tong)過在等離子(zi)體系統上使用氧(yang)源來產生。

　　此外(wai)，所有可用(yong)于等(deng)離子蝕刻的系統都可以使用(yong)氧(yang)氣(qi)，因為它通常用(yong)于清潔玻璃、聚四氟乙(yi)烯和塑料等(deng)非金(jin)屬(shu)表面，還(huan)可以增加非金(jin)屬(shu)表面的潤濕性。

　　等離子清洗成本

　　與其他類型的材料表面清潔系統相比，等離子清潔設備的成本相對便宜。除此之外，設備年度維護的成本也可以忽略不計，這就是為什么等離子清洗多年(nian)來顯著增長的原(yuan)因(yin)。

　　等離子(zi)清洗被認為是一種有效(xiao)且易于使用的方法，可以實(shi)現比傳統清洗工(gong)藝更好的清洗效(xiao)果(guo)。

　　等離子清潔應(ying)在需要清潔(jie)和可靠表面的(de)地(di)方進行。與傳統(tong)的(de)濕化學(xue)清洗程序相比，等離子清洗不僅簡單安全，而(er)且(qie)對環(huan)境友(you)好，而(er)且(qie)更有效。

　　等離子清洗應用

　　等離子清洗系統可用于(yu)處理前的(de)各種(zhong)表(biao)面(mian)清(qing)洗目(mu)的(de)。它對去除表(biao)面(mian)氧(yang)化(hua)和清(qing)除表(biao)面(mian)的(de)礦(kuang)物殘留(liu)物非常有效。

　　它(ta)還用于處(chu)理塑料和(he)彈性體的表面，以及(ji)清潔(jie)陶瓷。它(ta)還用于清潔(jie)玻璃表面以及(ji)金(jin)屬(shu)表面。

　　使用高效的等離子清洗系統無需(xu)使用化學溶劑。使用等離子清洗(xi)的一個(ge)主要(yao)好(hao)處(chu)是整個(ge)過程對(dui)操(cao)作(zuo)員友好(hao)且對(dui)環境(jing)友好(hao)。

　　除此之(zhi)外(wai)，使(shi)用(yong)等(deng)(deng)離(li)子(zi)清潔系統的運營成本(ben)很低，同時提供最高質量的清潔表面。使(shi)用(yong)等(deng)(deng)離(li)子(zi)清洗系統的另一個好(hao)處是它無需使(shi)用(yong)化學溶劑。

　　因此，使用等離(li)子清(qing)洗無需存(cun)儲設施(shi)或安排(pai)溶劑廢物(wu)處理(li)。等離(li)子是一種(zhong)經過驗證(zheng)且有效的關鍵(jian)表面制備方(fang)法(fa)。