鍍膜玻(bo)璃是在玻(bo)璃表(biao)面涂鍍一(yi)(yi)層(ceng)(ceng)或(huo)(huo)多層(ceng)(ceng)金(jin)(jin)屬，納米涂層(ceng)(ceng)、合(he)金(jin)(jin)或(huo)(huo)金(jin)(jin)屬化合(he)物(wu)薄膜，或(huo)(huo)將金(jin)(jin)屬離子遷移(yi)到(dao)玻(bo)璃表(biao)面層(ceng)(ceng)，以(yi)改變(bian)玻(bo)璃的(de)光學性能，增加(jia)玻(bo)璃使用(yong)本身(shen)體質感，滿足某(mou)種特定要求的(de)一(yi)(yi)種玻(bo)璃深加(jia)工產品。鍍膜玻璃的(de)制備技(ji)術自(zi)20世紀70年代(dai)發展(zhan)到現在，已(yi)經形成了一(yi)套比(bi)較成熟和完備的(de)技(ji)術體系。

1、固體粉末噴涂法

噴涂(tu)鍍膜技術是將一種或(huo)多(duo)種反應(ying)氣體(ti)或(huo)有機(ji)金屬鹽化合物溶液(ye)的(de)霧化顆粒或(huo)有機(ji)金屬鹽粉(fen)末噴涂(tu)于熱(re)玻璃表面而熱(re)分解成膜的(de)工藝方法(fa)。固體(ti)粉(fen)末噴涂(tu)法(fa)最(zui)初(chu)是由美國Ford汽車公司于20世紀80年代初(chu)應(ying)用于浮(fu)法(fa)生(sheng)產線上的(de)一種鍍膜方法(fa)。

2、化(hua)學氣相沉積法

化(hua)學氣(qi)相(xiang)沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構成(cheng)(cheng)薄(bo)膜(mo)元素的(de)一(yi)種或幾種化(hua)合物或單(dan)質(zhi)氣(qi)體，供給基(ji)板，利(li)用(yong)氣(qi)相(xiang)反應，在基(ji)板表(biao)面上反應沉積出所(suo)需固體薄(bo)膜(mo)的(de)工(gong)藝(yi)技術(shu)，該技術(shu)已成(cheng)(cheng)為鍍(du)膜(mo)玻(bo)璃生產的(de)主要(yao)制備技術(shu)。

在(zai)(zai)線(xian)(xian)CVD法(fa)鍍(du)(du)膜(mo)技(ji)術(shu)，是(shi)在(zai)(zai)浮(fu)法(fa)玻(bo)璃(li)生(sheng)(sheng)產過(guo)程中，連續(xu)沉積化(hua)合物薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)的CVD工(gong)藝(yi)技(ji)術(shu)，是(shi)目前世界上比較先進的鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)璃(li)生(sheng)(sheng)產技(ji)術(shu)。它是(shi)以(yi)潔凈、高(gao)(gao)速牽引(8-15m/min)、高(gao)(gao)溫(600℃)的浮(fu)法(fa)玻(bo)璃(li)為沉積襯底(di)。換言之，薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)沉積前，玻(bo)璃(li)襯底(di)即將離(li)開錫(xi)槽但尚未進人退火窯，且未被處(chu)理凈化(hua)。國(guo)外最(zui)早采用(yong)在(zai)(zai)線(xian)(xian)CVD法(fa)連續(xu)沉積Sn02薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)，而我國(guo)最(zui)早是(shi)用(yong)該法(fa)生(sheng)(sheng)產硅(gui)質鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)璃(li)。目前，我國(guo)已(yi)基本(ben)掌握了在(zai)(zai)線(xian)(xian)CVD法(fa)鍍(du)(du)膜(mo)技(ji)術(shu)，能夠(gou)穩定地生(sheng)(sheng)產硅(gui)質鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)璃(li)、在(zai)(zai)線(xian)(xian)Low-E玻(bo)璃(li)和在(zai)(zai)線(xian)(xian)自潔凈玻(bo)璃(li)。
 

3、等離(li)子(zi)自(zi)動噴(pen)涂鍍膜法
高端AF鍍膜設備，采用(yong)線(xian)性(xing)等離(li)子設計，鍍膜前對工(gong)件進行清潔處理，降(jiang)低工(gong)件本(ben)身附(fu)帶的(de)雜質(zhi)，采用(yong)點接觸傳動(dong)高壓噴涂加工(gong)，降(jiang)低產(chan)品污(wu)率，提(ti)升(sheng)產(chan)品品質(zhi)。可實現在(zai)線(xian)噴涂，提(ti)高機器產(chan)能，大(da)大(da)降(jiang)低成本(ben)。
設備工作流程。
入料(liao)→AF噴涂鍍(du)膜(mo)設備→進料(liao)→IR干燥→冷卻→人工(gong)收料(liao)

4、真空磁(ci)控濺射法

磁控濺射(she)法的生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)方(fang)式(shi)(shi)(shi)包括間歇式(shi)(shi)(shi)和(he)(he)連續式(shi)(shi)(shi)生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)法，其中連續式(shi)(shi)(shi)生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)法又可分(fen)為水平和(he)(he)垂直連續式(shi)(shi)(shi)生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)兩種。其中，水平連續式(shi)(shi)(shi)生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)法是(shi)玻璃(li)基(ji)片在水平輸送過(guo)程中完成全部加(jia)工(gong)工(gong)藝的生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)方(fang)式(shi)(shi)(shi)，以具有(you)3個(ge)濺射(she)室(shi)的雙端機(ji)。

磁控濺射鍍膜的優點主要有：①心對靶材的面積和形狀不作要求，且可實現大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復性好；②可用的膜材廣泛，只要能做成靶材的任何材料都可實現濺射，因此可制備絕大多數材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產效率高。


5、真空蒸渡法

真空蒸發(fa)鍍膜(mo)法（簡稱(cheng)真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是(shi)指在一(yi)定(ding)的真空條(tiao)件下(xia)，利用(yong)高溫加(jia)熱蒸鍍材料（金(jin)屬合金(jin)或金(jin)屬氧化物(wu)）到(dao)(dao)一(yi)定(ding)溫度(du)條(tiao)件下(xia)， 使其原子(zi)或分子(zi)從表(biao)面(mian)汽化逸出，形(xing)成蒸汽流，并飛行(xing)濺射到(dao)(dao)玻璃基板表(biao)面(mian)凝結形(xing)成固(gu)態(tai)薄膜(mo)的方(fang)法。

由(you)于真空蒸(zheng)鍛法(fa)(fa)的主要物理過(guo)程是通過(guo)加(jia)熱蒸(zheng)發(fa)(fa)材料而(er)產生(sheng)，所以又稱熱蒸(zheng)發(fa)(fa)法(fa)(fa)。蒸(zheng)發(fa)(fa)源作為蒸(zheng)發(fa)(fa)裝置的關鍵部件，大(da)多數蒸(zheng)發(fa)(fa)材料都要求在(zai)1000-2000℃的高溫下(xia)蒸(zheng)發(fa)(fa)。真空蒸(zheng)鍍(du)法(fa)(fa)按蒸(zheng)發(fa)(fa)源的不同(tong)可分為電阻法(fa)(fa)、電子(zi)束蒸(zheng)發(fa)(fa)法(fa)(fa)、高頻(pin)感應法(fa)(fa)和激(ji)光蒸(zheng)發(fa)(fa)法(fa)(fa)等。目(mu)前，采用真空蒸(zheng)鍍(du)法(fa)(fa)生(sheng)產鍍(du)膜玻璃的均是采用間(jian)歇(xie)式(shi)生(sheng)產。